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200納米分辨率X光探測(cè)器問(wèn)世
時(shí)間：2019-04-04 來(lái)源：科技日?qǐng)?bào)
創(chuàng)新連線·日本
日本高亮度光科學(xué)研究中心（JASRI）、理化學(xué)研究所及神島化學(xué)工業(yè)公司組成的研究小組，成功開(kāi)發(fā)出能分辨200納米結(jié)構(gòu)的高分辨率X光成像探測(cè)器。這款X光探測(cè)器擁有全球最高的分辨率，能獲得前所未有的高精細(xì)X光圖像。
研究小組利用X光轉(zhuǎn)換為可見(jiàn)光，開(kāi)發(fā)了無(wú)接合層的5微米厚透明薄膜閃爍體，大幅提高了光學(xué)特性，實(shí)現(xiàn)了接近X光成像理論極限的200納米分辨率。利用該探測(cè)器，研究小組成功拍攝了超大規(guī)模集成電路（VLSI）器件內(nèi)部300納米寬的布線。這是全球首次以實(shí)用水平畫(huà)質(zhì)無(wú)損拍攝出VLSI內(nèi)部的微細(xì)布線。
